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张学良多高,少帅张学良多高 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月(yuè)24日消(xiāo)息,国家知识产权(quán)局局长申长雨在新闻发布会(huì)上表(biǎo)示,将统筹推进各类知识产权法律法(fǎ)规和制度(dù)规则的制(zhì)修订工作。其(qí)中,修改完善集成电路布(bù)图(tú)设(shè)计保护条例,适应大规(guī)模(mó)集成电(diàn)路发展需(xū)要,助力芯(xīn)片产业做大做强(qiáng),服务数字经(jīng)济更好发展。

  加(jiā)强(张学良多高,少帅张学良多高qiáng)大数据、人工(gōng)智能、基因技术等新领域新(xīn)业态知识产权规则研(yán)究,助力相(xiāng)关领域创(chuàng)新发展。同时,积(jī)极参与知识(shí)产权国际规(guī)则制(zhì)定,更(gèng)好对(duì)接高标准(zhǔn)国际经(jīng)贸(mào)规则,助(zhù)力高(gāo)水平对外开放。

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