大家好，来看一则突发消息。

　　美光公(gōng)司在华销(xiāo)售的产品未通过网(wǎng)络安全审查

　　据(jù)网信办消息，日前，网络(luò)安(ān)全审查办公室(shì)依法对美光公司(sī)在华销售产品进行了网络安全审查。

　　审查(chá)发现，美光公(gōng)司产品存在较严重(zhòng)网络安全(quán)问题(tí)隐(yǐn)患，对我(wǒ)国(guó)关键信息基础设施供(gōng)应链造成重大安全风险(xiǎn)，影响我(wǒ)国国家安全。为此，网络安全审查办公室依(yī)法作(zuò)出不予通(tōng)过网络(luò)安全审查(chá)的结(jié)论(lùn)。按照《网络安全法(fǎ)》等法律法规(guī)，我国(guó)内关键信(xìn)息基(jī)础设施的运营者(zhě)应停止采购美光公司产品(pǐn)。

　　此(cǐ)次对美光公(gōng)司产品进行网络安全审查(chá)，目的是防范产品网络安(ān)全(quán)问(wèn)题危害国家关键信息基(jī)础设施安全，是维护(hù)国家安全的必(bì)要措施。中国坚定推进高(gāo)水平对(duì)外(wài)开放，只(zhǐ)要遵守(shǒu)中国法(fǎ)律(lǜ)法规要求，欢(huān)迎各国(guó)企业、各类平台产品服(fú)务进入中国市场。

　　3月31日，中国(guó)网信网发(fā)文称(chēng)，为(wèi)保(bǎo)障(zhàng)关键信息基础设施供应链安全，防(fáng)范产品问题隐患造成网(wǎng)络安全风险，维(wéi)护(hù)国家安(ān)全，依据《中华(huá)人民共和国(guó)国家安(ān)全法》《中华人民共和国网络安全法》，网络安全(quán)审(shěn)查办公室按(àn)照《网络安(ān)全审查办法》，对美光公(gōng)司(sī)（Micron）在华销(xiāo)售的产品实施网络(luò)安全审查。

　　美光(guāng)是美国的(de)存(cún)储芯片行(xíng)业龙头，也是全球(qiú)存储芯(xīn)片(piàn)巨头之一，2022年(nián)收入来(lái)自中国(guó)市场收入从此前高峰(fēng)57％降至2022年约11％。根(gēn)据市场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电子(zi)、 铠侠、西(xī)部数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存(cún)）市场份额约为 96.76％，三星电子、 SK 海力士、美光在(zài)全球(qiú) DRAM （内存）市场份额约为 94.35％。

　　A股上市(shì)公(gōng)司中，江(jiāng)波龙、佰维存储等(děng)公司披露过美(měi)光(guāng)等国际(jì)存储(chǔ)厂商(shāng)为公(gōng)司供应商。

　　美光(guāng)在江(jiāng)波龙采(cǎi)购占比已经显著下(xià)降，至少(shǎo)已经不是主(zhǔ)要(yào)大供应商(shāng)。

　　公告显示， 2021年美光位列江(jiāng)波(bō)龙第一大(dà)存储晶圆供应(yīng)商，采(cǎi)修行靠个人的上一句是什么意思，修行靠个人下一句购约31亿元，占比33.52％；2022年(nián)，江(jiāng)波龙第一(yī)大、第二大和第三(sān修行靠个人的上一句是什么意思，修行靠个人下一句)大供应商采购(gòu)金额占比分别是26.28％、22.85％和(hé)5.76％。

　　目前(qián)江波(bō)龙已经在存储产业(yè)链上(shàng)下游(yóu)建立国内外广(guǎng)泛合作。2022年年报显示，江(jiāng)波龙(lóng)与三星、美(měi)光(guāng)、西(xī)部数据等主要存(cún)储晶圆原厂签署了长期合约，确保(bǎo)存储晶圆(yuán)供(gōng)应的稳定性，巩固公司在下游市场(chǎng修行靠个人的上一句是什么意思，修行靠个人下一句)的供应(yīng)优势，公司也(yě)与国内国产(chǎn)存储晶圆原厂武(wǔ)汉长江存储、合肥长(zhǎng)鑫保持良好的合作(zuò)。

　　有券商此前(qián)就分析，如果美光在中国区销售受(shòu)到限制，或将导(dǎo)致下游客(kè)户转而采购国(guó)外三星、 SK海力士(shì)，国内长(zhǎng)江存储(chǔ)、长鑫存(cún)储等竞对(duì)产品

　　分析称，长存、长鑫的(de)上(shàng)游设(shè)备厂或从中受益(yì)。存储器的生产已经演(yǎn)进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺(yì)。另外NAND Flash现在已(yǐ)经进入3D NAND时代(dài)，2 维到3维的结(jié)构转变使刻蚀和薄膜成为最关键(jiàn)、最大量的加工(gōng)设备。3D NAND每(měi)层均需要经过薄膜沉积工艺步骤(zhòu)，同时刻蚀(shí)目前前沿(yán)要刻到(dào) 60：1的(de)深孔，未来可(kě)能(néng)会更深的孔或(huò)者沟(gōu)槽(cáo)，催生更(gèng)多设备需求。据东(dōng)京电子披露(lù)，薄膜沉积(jī)设备及(jí)刻蚀占3D NAND产(chǎn)线资本开(kāi)支合计为(wèi)75％。自(zì)长江存(cún)储被加(jiā)入美国限制名单，设(shè)备国产化进程加速，看(kàn)好拓(tuò)荆(jīng)科技（薄膜(mó)沉积）等(děng)相关公司份额提(tí)升，以及存储业务占比较高的华海(hǎi)清科（CMP）、盛美(měi)上海（清洗）等(děng)收入增(zēng)长。

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