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电动牙刷如何自w到高c,将电动牙刷放在小洞里作文

电动牙刷如何自w到高c,将电动牙刷放在小洞里作文 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日消息(xī),国家知识产权局局长申长雨在新闻发布会上表示,将统筹(chóu)推进各类(lèi)知识产权法律法规和制度规则的制修(xiū)订工作(zuò)。其中,修改完(wán)善(shàn)集(jí)成电路布(bù)图设计保护条(tiáo)例,适(shì)应大规模集成电(diàn)路发展需要,助(zhù)电动牙刷如何自w到高c,将电动牙刷放在小洞里作文力芯(xīn)片(piàn)产业做大(dà)做强,服务数字经(jīng)济更好发展。

  加(jiā)强大数据、人工智能、基因技术(shù)等新领域新(xīn)业态知识产权(quán)规则研究,助力相关领域创新发(fā)展。同时,积极参与知识产权国际规则制(zhì)定,更好对(duì)接高标准国际经贸规则(zé),助力(lì)高水(shuǐ)平对(duì)外开放。

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