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　　美光公司(sī)在(zài)华销(xiāo)售的产(chǎn)品未通过网络安全审查(chá)

　　据网信办消息，日前，网(wǎng)络安全审(shěn)查办公室依法(fǎ)对美(měi)光(guāng)公(gōng)司在华销售产(chǎn)品(pǐn)进行了网络安全审查。

　　审查发现，美光公司产品存在较(jiào)严重网络安全问题隐患，对我国关键(jiàn)信息基础(chǔ)设施供应(yīng)链造成重大安(ān)全(quán)风险(xiǎn)，影响(xiǎng)我国国家安全。为此，网(wǎng)络安全审(shěn)查办公室依(yī)法作出(chū)不予通过网络安全审(shěn)查的结论。按照敬请届时光临是什么意思，万望届时光临是什么意思《网络安全法》等(děng)法律法(fǎ)规，我国内关键(jiàn)信(xìn)息基础设施的运营者应(yīng)停止采购美光公(gōng)司产品。

　　此次对(duì)美光公(gōng)司产品进行网络安全审查，目(mù)的是防范产品网(wǎng)络安(ān)全问题危害国家关键信息(xī)基(jī)础设施安(ān)全(quán)，是维护国(guó)家(jiā)安全的必要措施。中国坚定推进高水平对外开放(fàng)，只要(yào)遵守中国法律法(fǎ)规要求，欢迎各国(guó)企业、各类(lèi)平台产品服务进入中国市场。

　　3月31日(rì)，中国网(wǎng)信网发文称，为保障(zhàng)敬请届时光临是什么意思，万望届时光临是什么意思关键信息基础设施(shī)供(gōng)应链安全，防范产品问题隐(yǐn)患造成(chéng)网络安全风险，维护国家安全，依据《中华人民共和(hé)国国家安全(quán)法》《中华人民共和国网络(luò)安全(quán)法》，网络安全审(shěn)查办公室按照《网络安全审(shěn)查办(bàn)法(fǎ)》，对美光公司（Micron）在华销售的产品实(shí)施(shī)网络安全审查。

　　美光(guāng)是美国(guó)的存储(chǔ)芯片行(xíng)业龙头，也是全球存储芯片巨(jù)头之一，2022年(nián)收入来自中国市场收(shōu)入从此(cǐ)前高(gāo)峰57％降至2022年约11％。根据(jù)市(shì)场咨询机构(gòu) Omdia（IHS Markit）统(tǒng)计(jì)，2021 年三星电子、 铠侠(xiá)、西部数据、SK 海力(lì)士、美光(guāng)、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场份额约为 96.76％，三星电子、 SK 海(hǎi)力士、美(měi)光(guāng)在全(quán)球 DRAM （内存）市场份额约为(wèi) 94.35％。

　　A股上市公司中，江(jiāng)波(bō)龙(lóng)、佰维存储等公司披露(lù)过美光(guāng)等国际存储(chǔ)厂商为公司供(gōng)应商。

　　美光在江波(bō)龙采购占比已经显著下降(jiàng)，至少已经不是(shì)主要大供应商。

　　公告显(xiǎn)示(shì)， 2021年美(měi)光位列江波龙第一大存(cún)储(chǔ)晶圆供应商，采(cǎi)购约31亿(yì)元，占比33.52％；2022年，江(jiāng)波龙第一大、第二大和(hé)第三大供应商(shāng)采购金额占(zhàn)比(bǐ)分(fēn)别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江(jiāng)波龙已经在存储产(chǎn)业链上下游建立国内外广泛合作。2022年年报显(xiǎn)示(shì)，江波龙(lóng)与(yǔ)三星、美光、西部数(shù)据等主要存储晶圆(yuán)原厂(chǎng)签署了长期合约，确(què)保存储晶圆(yuán)供应的(de)稳定性，巩固公(gōng)司在下游市场(chǎng)的供应优势，公(gōng)司也与(yǔ)国内国产存(cún)储晶圆原厂(chǎng)武(wǔ)汉长江存储、合肥长鑫(xīn)保(bǎo)持良好(hǎo)的合(hé)作。

　　有券商此(cǐ)前就分析(xī)，如果(guǒ)美光在中国区销售受敬请届时光临是什么意思，万望届时光临是什么意思到限制(zhì)，或(huò)将导致下(xià)游客户转而采购国外三星、 SK海力士，国内长江存储、长鑫存储等竞对(duì)产品(pǐn)

　　分析称，长存、长鑫(xīn)的上游设备厂或从中受益。存储器的(de)生产已经演进(jìn)到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的工艺。另外(wài)NAND Flash现在已经进入3D NAND时代，2 维到3维的(de)结构转变(biàn)使刻蚀和薄膜(mó)成为最关键、最(zuì)大(dà)量的(de)加工设备(bèi)。3D NAND每层(céng)均需要经过薄(báo)膜沉积工艺步骤，同(tóng)时刻蚀(shí)目前前沿(yán)要(yào)刻到 60：1的深孔，未来可能会更深的孔或(huò)者(zhě)沟槽(cáo)，催生更多设备(bèi)需求(qiú)。据(jù)东京电子披露，薄膜沉(chén)积设备及刻蚀占3D NAND产线资本开支合计(jì)为75％。自长江存(cún)储被加(jiā)入美(měi)国(guó)限制(zhì)名单，设(shè)备国产化(huà)进程加速，看好(hǎo)拓荆(jīng)科技（薄膜沉积(jī)）等相关公司份额提升，以(yǐ)及(jí)存储(chǔ)业务占(zhàn)比较高的华(huá)海(hǎi)清科（CMP）、盛美上海（清洗）等收(shōu)入增长(zhǎng)。

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