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在电脑里登陆一个邮箱 要去哪登陆?该怎么登陆呢,邮箱电脑怎么登录 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来看一则(zé)突发(fā)消息。

  美光公司在(zài)华销售(shòu)的(de)产品(pǐn)未通(tōng)过网络安全审(shěn)查(chá)

  据(jù)网信(xìn)办消息(xī),日前,网络安全审查办公室(shì)依法对(duì)美光公司在华销售产品进行了网络安全审查(chá)。

  审查发现(xiàn),美(měi)光公司产品存在较严重网络安全问题隐患,对我国关键信息基础设(shè)施供应链造成重(zhòng)大安全风险,影(yǐng)响我国国家安(ān)全。为(wèi)此,网络安全(quán)审(shěn)查办(bàn)公室依法作出不予(yǔ)通过网络安全审(shěn)查的结(jié)论。按照《网络安全法(fǎ)》等(děng)法律法规,我国内关键信(xìn)息基础设施的运营者应停止采购美光公司产(chǎn)品。

  此次对美(měi)光公司产品(pǐn)进行网络安全审查(chá),目的是(shì)防范产品网络安全问(wèn)题危害国家关键信息(xī)基(jī)础设施安全,是维护(hù)国家(jiā)安(ān)全的必要措施(shī)。中国坚定推进高水平对(duì)外开放,只(zhǐ)要遵守中国法(fǎ)律法(fǎ)规要求,欢迎各国(guó)企业(yè)、各类平台产品服务进入中(zhōng)国市场。

  半(bàn)导体突发!中国出手:停止采购!

  3月31日(rì),中国网信网发(fā)文称,为保障关键(jiàn)信息基础设施供应链安全,防范产(chǎn)品问题隐患造成网络安全风(fēng)险(xiǎn),维护国家安全(quán),依据《中(zhōng)华人民共和(hé)国国家安全法》《中华人民共和国网络安全法》,网(wǎng)络(luò)安(ān)全审查办公(gōng)室(shì)按照《网络安(ān)全(quán)审查办法》,对美光公司(sī)(Micron)在华(huá)销售的产品实施网络安全审查。

  半(bàn)导体(tǐ)突发!中国出手:停止采(cǎi)购!

  美光是美国的存储芯片行业龙头,也是全球(qiú)存储芯片巨头(tóu)之(zhī)一(yī),2022年收入(rù)来自(zì)中国市场(chǎng)收入从此前高(在电脑里登陆一个邮箱 要去哪登陆?该怎么登陆呢,邮箱电脑怎么登录gāo)峰57%降至2022年约(yuē)11%。根据(jù)市场咨(zī)询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星电子、 铠侠、西部数据、SK 海力(lì)士、美(měi)光、Solidigm 在(zài)全球 NAND Flash (闪存(cún))市场份(fèn)额约为(wèi) 96.76%,三星电(diàn)子(zi)、 SK 海力士、美(měi)光在全(quán)球 DRAM (内(nèi)存)市(shì)场(chǎng)份额(é)约为 94.35%。

  A股上市公司中,江波龙(lóng)、佰维存(cún)储等公司披露(lù)过美光等国际存储厂商为公司供应商。

  美光在江波龙采(cǎi)购占比(bǐ)已(yǐ)经(jīng)显著(zhù)下降(jiàng),至少已经不是主要大供应商。

  公告显示, 2021年美光位列江波龙第一大存储晶圆供应商,采购约31亿元,占比33.52%;2022年(nián),江波龙第(dì)一大、第(dì)二大(dà)和(hé)第三大供应商采(cǎi)购金额占比分别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波(bō)龙已(yǐ)经在(zài)存(cún)储产(chǎn)业链上下游建立(lì)国内外广(guǎng)泛合(hé)作。2022年年报显示,江(jiāng)波龙与三星、美光、西部数据等(děng)主要存储(chǔ)晶圆原厂签署了长期合约,确保存储晶圆供应(yīng)的稳定性,巩(gǒng)固(gù)公司在下(xià)游市(shì)场的供应优势,公(gōng)司也与(yǔ)国内(nèi)国产存储(chǔ)晶圆原厂(chǎng)武汉长江存储、合肥长鑫保持良好的合作。

  有券商此前就分(fēn)析,如果美光在中国(guó)区销售受到限制,或(huò)将导(dǎo)致下游客户(hù)转而采(cǎ在电脑里登陆一个邮箱 要去哪登陆?该怎么登陆呢,邮箱电脑怎么登录i)购国外三星(xīng)、 SK海力(lì)士,国(guó)内长江存储、长鑫存储等竞对(duì)产品

  分(fēn)析称,长存、长鑫的上游(yóu)设备厂或从中受益。存储器(qì)的生产已(yǐ)经演(yǎn)进到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的工(gōng)艺。另外(wài)NAND Flash现在已经进入3D NAND时代,2 维到3维的结构(gòu)转变使刻蚀和薄膜成为最关键、最大量的加(jiā)工设备。3D NAND每层均需要经过薄膜(mó)沉(chén)积工(gōng)艺步骤,同(tóng)时刻蚀目前前沿要刻(kè)到 60:1的深(shēn)孔,未来可能会(huì)更深(shēn)的孔或(huò)者(zhě)沟槽,催生更多设备需求。据东(dōng)京电(diàn)子披(pī)露,薄膜沉积设(shè)备及刻蚀占(zhàn)3D NAND产线资本开支合计为75%。自长江存(cún)储被加入美(měi)国限(xiàn)制名单,设备国产(chǎn)化进程加速,看(kàn)好拓(tuò)荆科(kē)技(薄膜沉积)等相(xiāng)关(guān)公司份额提升,以及存储业(yè)务占比较高(gāo)的(de)华海清科(CMP)、盛美上海(清洗)等收入增(zēng)长。

 

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