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陈睿怎么了,b站陈睿事件 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来看一则(zé)突发消息。

  美光公(gōng)司(sī)在华(huá)销售(shòu)的产(chǎn)品(pǐn)未通过网(wǎng)络安全(quán)审查

  据网(wǎng)信办消(xiāo)息(xī),日前,网络(luò)安(ān)全审查办公室依法对美(měi)光公司在华销(xiāo)售(shòu)产品进(jìn)行了(le)网络安全审查(chá)。

  审查发现,美光(guāng)公司产品存在较严重网络安(ān)全问题隐患(huàn),对我国(guó)关键(jiàn)信息基础设施供应链造成重大安(ān)全(quán)风险(xiǎn),影响我国国家(jiā)安全。为此(cǐ),网络(luò)安全审查办公室依法作出不予(yǔ)通过网络(luò)安全审查的结论。按照《网络(luò)安全法》等(děng)法律法规,我国内关键信息基础(chǔ)设施的运营者应(yīng)停止采(cǎi)购美光公(gōng)司产品(pǐn)。

  此次(cì)对美光公(gōng)司产品进行网络安全审查,目的是(shì)防范产品网络安全问题危(wēi)害国家关键信息基础(chǔ)设施安(ān)全,是维护国(guó)家安全(quán)的必要措施(shī)。中国(guó)坚定(dìng)推进高水平对外(wài)开放(fàng),只(zhǐ)要遵(zūn)守中国法律法规要求(qiú),欢迎各国(guó)企业(yè)、各(gè)类(lèi)平台产品服务(wù)进入中国市场。

  半导体突(tū)发!中国出手(shǒu):停止采购!

  3月31日,中国陈睿怎么了,b站陈睿事件(guó)网信(xìn)网发文称,为保障关键信息基础设施供(gōng)应链安全,防范产品问(wèn)题隐患造成网络安全风险(xiǎn),维(wéi)护国家安全,依据《中华人民共和国国家陈睿怎么了,b站陈睿事件安全法》《中华人民共和国(guó)网(wǎng)络(luò)安全法》,网络安(ān)全审查办公室(shì)按照《网络(luò)安全审查办法》,对美光公司(Micron)在华销售的(de)产品(pǐn)实施网络安全审查。

  半导体突发!中国出手(shǒu):停止(zhǐ)采购!

  美(měi)光是美国(guó)的(de)存储(chǔ)芯片行业(yè)龙头,也是全球(qiú)存储(chǔ)芯片巨头之一,2022年(nián)收入(rù)来(lái)自中国市场(chǎng)收入从(cóng)此前高峰(fēng)57%降至2022年约(yuē)11%。根据市场咨询机构(gòu) Omdia(IHS Markit)统计,2021 年(nián)三星电子、 铠侠、西(xī)部数据、SK 海力(lì)士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存)市场份额约为 96.76%,三(sān)星电子、 SK 海力士、美光在全球 DRAM (内存)市场份额约陈睿怎么了,b站陈睿事件(yuē)为 94.35%。

  A股上市公(gōng)司中,江波龙、佰维存储等公司披(pī)露过美(měi)光等国(guó)际存(cún)储厂商为(wèi)公司(sī)供应商(shāng)。

  美光在江波龙(lóng)采购占比已经显(xiǎn)著下(xià)降,至少已经不(bù)是主(zhǔ)要大供(gōng)应商。

  公(gōng)告显(xiǎn)示, 2021年(nián)美(měi)光位(wèi)列(liè)江波龙(lóng)第一大存储晶圆供应(yīng)商(shāng),采(cǎi)购约31亿元,占比33.52%;2022年,江(jiāng)波(bō)龙(lóng)第一大(dà)、第二大和第三大(dà)供应商采(cǎi)购金(jīn)额(é)占比分别是(shì)26.28%、22.85%和5.76%。

  目(mù)前江波龙已经在存储(chǔ)产业链上下(xià)游建(jiàn)立国内外广泛合作。2022年年报(bào)显示,江波(bō)龙与三星、美光、西部数据等主要存储晶圆原厂签署(shǔ)了长期(qī)合(hé)约,确保存(cún)储(chǔ)晶(jīng)圆供应的稳定(dìng)性,巩固公司在下游市(shì)场的供应(yīng)优(yōu)势,公司也与国内国产(chǎn)存储晶圆原厂(chǎng)武汉长江(jiāng)存储、合(hé)肥长鑫保持良(liáng)好的(de)合作。

  有券商此前就分析,如果(guǒ)美光在中国区销售(shòu)受到限制,或(huò)将导致下游客户(hù)转而采购国外(wài)三(sān)星(xīng)、 SK海力士,国内长江(jiāng)存储(chǔ)、长(zhǎng)鑫存储等竞对(duì)产品(pǐn)

  分析(xī)称,长存、长鑫的上游(yóu)设备厂或从中受益。存储器的生产已经(jīng)演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺(yì)。另(lìng)外NAND Flash现在已经进入3D NAND时代,2 维到3维的结构转(zhuǎn)变使刻蚀和(hé)薄膜成(chéng)为最关(guān)键、最大量的(de)加工设备(bèi)。3D NAND每层均(jūn)需(xū)要经过薄膜沉积工(gōng)艺步骤,同时刻(kè)蚀目前(qián)前沿要(yào)刻到 60:1的深孔,未来(lái)可(kě)能会更(gèng)深的孔(kǒng)或(huò)者沟槽,催(cuī)生更多(duō)设备需求。据东(dōng)京电子披露,薄膜沉(chén)积(jī)设备及刻蚀占(zhàn)3D NAND产线资本(běn)开支合计为75%。自长江(jiāng)存储(chǔ)被加(jiā)入美(měi)国(guó)限制名(míng)单,设备国产化进程加速,看好(hǎo)拓荆科(kē)技(薄膜(mó)沉积)等相关公(gōng)司(sī)份额提升,以(yǐ)及存(cún)储(chǔ)业(yè)务占比较高的华海清(qīng)科(CMP)、盛美上(shàng)海(清洗)等收入增长。

 

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