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　　美光(guāng)公司在华销售的产品未通过网络安全审查

　　据网信办消息，日(rì)前(qián)，网络安全审查办公室依法对美(měi)光公司在华销售产品进行了网络安全审查。

　　审查发现(xiàn)，美光公司产品存在较(jiào)严重网络安全问题隐患，对我国关键信息基础设施供应链造成(chéng)重大(dà)安全(quán)风险，影响我国国家(jiā)安全。为此，网络安全审查办(bàn)公(gōng)室依法(fǎ)作出(chū)不予通过网络安全审查的结论(lùn)。按照《网(wǎng)络安全法》等(děng)法律法规，我国内关键(jiàn)信息基础(chǔ)设施的(de)运营者应停止采购美光公司产品。

　　此次对美光公司产品进行网络(luò)安全(quán)审查，目(mù)的是防范产品(pǐn)网络(luò)安全问题危害国家(jiā)关键信息基础设施(shī)安全，是维(wéi)护国家安全的必要措施。中(zhōng)国坚蟑螂在床上爬了还能睡吗，蟑螂在床上爬了还能睡吗定推进高水平对外开(kāi)放，只要遵守(shǒu)中国(guó)法律法规要求，欢迎各国企业、各类平台(tái)产(chǎn)品服务进(jìn)入中国市(shì)场。

　　3月31日(rì)，中国网信网发文称(chēng)，为保障关键信息基(jī)础设施供应链安全，防(fáng)范产品问题隐患造成网络(luò)安(ān)全风险，维护国家安(ān)全，依据(jù)《中华人民共(gòng)和国国家安全法》《中华(huá)人(rén)民共和国网络安全法》，网络(luò)安(ān)全审(shěn)查办公室按(àn)照《网(wǎng)络(luò)安全(quán)审查(chá)办法》，对美光公司蟑螂在床上爬了还能睡吗，蟑螂在床上爬了还能睡吗（Micron）在华销(xiāo)售的产(chǎn)品实施网络安全审查。

　　美光是(shì)美国的(de)存储芯片行业龙(lóng)头，也是全球(qiú)存储(chǔ)芯片巨(jù)头之一，2022年收入来自中国市场收入从此(cǐ)前高峰57％降至2022年约11％。根据市(shì)场(chǎng)咨询机构(gòu) Omdia（IHS Markit）统计(jì)，2021 年三星电子、 铠侠、西部数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪(shǎn)存(cún)）市场份额约为(wèi) 96.76％，三(sān)星电(diàn)子、 SK 海力(lì)士、美(měi)光在全球 DRAM （内存(cún)）市场(chǎng)份额约为 94.35％。

　　A股上(shàng)市公司中，江波(bō)龙、佰维存储等公司(sī)披露过美(měi)光(guāng)等国际存储厂商为公司供(gōng)应(yīng)商。

　　美光在江(jiāng)波龙采购占比已(yǐ)经显著下降，至少(shǎo)已经不是主要大(dà)供(gōng)应商。

　　公告(gào)显示， 2021年美(měi)光(guāng)位列(liè)江(jiāng)波龙第一大存储晶圆(yuán)供(gōng)应(yīng)商(shāng)，采购约31亿(yì)元，占比33.52％；2022年，江波龙第(dì)一大、第二大和(hé)第三大供应商采购(gòu)金(jīn)额占比(bǐ)分(fēn)别是26.28％、22.85％和(hé)5.76％。

　　目前(qián)江波龙已经在存储产业链上下游建立国(guó)内外(wài)广(guǎng)泛合作。2022年年报显示，江(jiāng)波龙与(yǔ)三星、美(měi)光(guāng)、西(xī)部数据等(děng)主要存储(chǔ)晶圆原厂签(qiān)署(shǔ)了长期(qī)合约，确保存储晶圆供应(yīng)的稳(wěn)定性，巩固(gù)公司(sī)在下游市(shì)场的(de)供应(yīng)优势(shì)，公司(sī)也与国内国产(chǎn)存储晶圆(yuán)原厂(chǎng)武(wǔ)汉长江存(cún)储、合(hé)肥长鑫保(bǎo)持良好的合作(zuò)。

　　有(yǒu)券商此前就分析，如果美(měi)光在中国区销售受到限(xiàn)制，或将导致下游客户转而采(cǎi)购(gòu)国(guó)外三星、 SK海(hǎi)力(lì)士，国内长江存储(chǔ)、长鑫存储等(děng)竞对产品

　　分(fēn)析称(chēng)，长存(cún)、长鑫的上游(yóu)设(shè)备(bèi)厂或从中受益。存储器的生(shēng)产(chǎn)已经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外(wài)NAND Flash现在(zài)已(yǐ)经进入3D NAND时代，2 维到3维的结构转变使刻(kè)蚀和薄膜成为最(zuì)关键、最大量的加工设备。3D NAND每层均(jūn)需要经过薄膜沉积工(gōng)艺步骤，同(tóng)时刻(kè)蚀目前前沿(yán)要(yào)刻到 60：1的深孔，未来(lái)可能会更深的孔或者沟槽，催生更(gèng)多设(shè)备需求。据东京(jīng)电(diàn)子(zi)披露，薄膜沉积设备(bèi)及刻蚀(shí)占3D NAND产线(xiàn)资本开支合计为(wèi)75％。自长江存储(chǔ)被加入美国限(xiàn)制(zhì)名(míng)单，设备国产化(huà)进程加速，看好拓荆科技（薄膜(mó)沉积）等相(xiāng)关公司份额提升(shēng)，以及存(cún)储业务占比较高的华海(hǎi)清(qīng)科（CMP）、盛美上海（清洗）等(děng)收入增(zēng)长。

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