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苏州市相城区邮编是多少 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来看一则突发消息。

  美光公司在(zài)华销售的产品(pǐn)未通过(guò)网络安全(quán)审查

  据网信办消息,日前,网络安全审查办公(gōng)室依法对美光公(gōng)司在华销售产(chǎn)品进行(xíng)了(le)网络安全审查。

  审查发现,美(měi)光公司产(chǎn)品(pǐn)存(cún)在较(jiào)严重(zhòng)网络安全问题隐患,对我国关键信息基础设施供应链造成重大(dà)安全风(fēng)险,影响我国国家安全。为(wèi)此,网络(luò)安苏州市相城区邮编是多少全(quán)审查(chá)办公室(shì)依法作出不予(yǔ)通(tōng)过网(wǎng)络安全审查的结(jié)论。按照《网络(luò)安(ān)全法》等法律法规,我国内关键信息基(jī)础(chǔ)设施的运营者(zhě)应停止采购美光公司产品(pǐn)。

  此次对美光(guāng)公司产(ch苏州市相城区邮编是多少ǎn)品进行网络安全(quán)审(shěn)查,目的是防范产品(pǐn)网络安全问题危(wēi)害国家(jiā)关键信息基础设施安全,是(shì)维护国家安全(quán)的必(bì)要措施。中(zhōng)国坚定推(tuī)进高水(shuǐ)平对(duì)外开(kāi)放,只要遵(zūn)守中国法律法规要求,欢迎各(gè)国(guó)企业、各(gè)类平台产品服务进(jìn)入中(zhōng)国市场(chǎng)。

  半导(dǎo)体突发!中(zhōng)国出手:停止采购!

  3月(yuè)31日,中国网信网发文称,为保(bǎo)障关键信息基础设施供应链安全,防(fáng)范产品问题隐患造成(chéng)网络安全(quán)风险,维护国家安全,依据《中华人民共和国国(guó)家(jiā)安(ān)全法》《中(zhōng)华人民共和国网络安(ān)全法》,网(wǎng)络安全审查办(bàn)公室按照《网络安全(quán)审(shěn)查办法》,对美光公司(sī)(Micron)在华销售的产品实施网(wǎng)络安全审(shěn)查。

  半导体突(tū)发!中国出手(shǒu):停(tíng)止采购!

  美光是美国的存储(chǔ)芯片行业(yè)龙(lóng)头,也是全球(qiú)存储(chǔ)芯片(piàn)巨头(tóu)之一,2022年(nián)收入(rù)来(lái)自(zì)中(zhōng)国市场(chǎng)收入从此前高峰57%降至2022年约11%。根(gēn)据市场咨(zī)询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年(nián)三星(xīng)电子、 铠侠、西部数据、SK 海力士(shì)、美光、Solidigm 在全(quán)球 NAND Flash (闪存)市(shì)场份(fèn)额约为 96.76%,三星电子(zi)、 SK 海力士、美(měi)光在全球 DRAM (内存)市场份(fèn)额约(yuē)为 94.35%。

  A股上市公(gōng)司中,江(jiāng)波龙、佰(bǎi)维存储等公司披露过(guò)美(měi)光等(děng)国际(jì)存储厂商为公司供应(yīng)商。

  美光在江波(bō)龙采(cǎi)购占比已经显著下降,至少已经不是主(zhǔ)要(yào)大供应商(shāng)。

  公告显示, 2021年美光位列江波龙第一大存储晶圆供(gōng)应商(shāng),采(cǎi)购(gòu)约31亿元,占比33.52%;2022年,江波龙第一大(dà)、第二大(dà)和第三大供应商采购金额占(zhàn)比分别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波龙(lóng)已经(jīng)在(zài)存储产业链上下(xià)游建立(lì)国内外(wài)广(guǎng)泛(fàn)合作(zuò)。2022年年报显示,江波龙与三星、美光、西(xī)部数据等主要(yào)存(cún)储(chǔ)晶圆(yuán)原厂签署(shǔ)了长期(qī)合(hé)约,确保存(cún)储晶圆供应的(de)稳定性,巩固公(gōng)司在下游市场的(de)供应优势,公司也与(yǔ)国内国产存(cún)储晶圆原(yuán)厂武汉长江存储(chǔ)、合肥长鑫保(bǎo)持良好(hǎo)的合作(zuò)。

  有券商此(cǐ)前就(jiù)分析,如果美光在中国区销(xiāo)售受(shòu)到限制,或将导致下游客户转而(ér)采购国(guó)外三(sān)星(xīng)、 SK海力士,国内(nèi)长江存储、长鑫存储等竞对(duì)产(chǎn)品

  分析称(chēng),长(zhǎng)存、长鑫的上游设(shè)备苏州市相城区邮编是多少厂或从(cóng)中受益。存储器的生产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的工艺(yì)。另外NAND Flash现在已经进入3D NAND时代,2 维到(dào)3维的结构(gòu)转变使刻蚀和薄膜成(chéng)为最关键、最大量的加工设(shè)备。3D NAND每层(céng)均需要(yào)经过薄膜沉积工艺步骤(zhòu),同(tóng)时刻蚀目前前沿要刻到 60:1的(de)深孔,未来可能会更深(shēn)的孔(kǒng)或者沟槽(cáo),催生更多设备需求。据东(dōng)京电子披露,薄膜沉积设备及(jí)刻蚀占(zhàn)3D NAND产(chǎn)线资本开支合计为75%。自长江存储被加(jiā)入美国限(xiàn)制名单,设备(bèi)国产化进(jìn)程加速,看好(hǎo)拓(tuò)荆科技(jì)(薄膜沉积)等相关公司份额提升,以及存储业务(wù)占比较高的华海清科(CMP)、盛美上海(清洗)等收入增长。

 

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